一、步入半導體無塵車間前期準備工作;
1. 進入無塵車間前,必須經(jīng)過凈化工程公司專業(yè)培訓。
2. 進入無塵車間嚴禁吸煙,吃(飲)食,外來雜物(如報章,雜志,鉛筆...等)不可攜入,并嚴禁嘻鬧奔跑及團聚談天。
3. 進入無塵室前,需在規(guī)定之處所脫鞋,將鞋置于鞋柜內(nèi),外衣置于衣柜內(nèi),私人物品置于私人柜內(nèi),柜內(nèi)不可放置食物。
4. 進入無塵室須先在更衣室,將口罩,無塵帽,無塵衣以及鞋套按規(guī)定依程序穿戴整齊,再經(jīng)空氣洗塵室洗塵,并踩踏除塵地毯(洗塵室地板上)方得進入。
5. 戴口罩時,應將口罩戴在鼻子之上,以將口鼻孔蓋住為原則,以免呼吸時污染芯片。
6. 穿著無塵衣,無塵帽前應先整理服裝以及頭發(fā),以免著上無塵衣后,不得整理又感不適。
7. 整肅儀容后,先戴無塵帽,無塵帽的穿戴原則系:
(1)頭發(fā)必須完全覆蓋在帽內(nèi),不得外露。
(2)無塵帽之下擺要平散于兩肩之上,穿上工作衣后,方不致下擺脫出,裸露肩頸部。
8. 無塵帽戴妥后,再著無塵衣,無塵衣應尺吋合宜,才不致有褲管或衣袖太短而裸露皮膚之虞,穿衣時應注意帽之下擺應保平整之狀態(tài),無塵衣不可反穿。
9. 穿著無塵衣后,才著鞋套,拉上鞋套并將鞋套整平,確實蓋在褲管之上。
10. 戴手套時應避免以光手碰觸手套之手掌及指尖處(防止鈉離子污染),戴上手套后,應將手套之手腕置于衣袖內(nèi),以隔絕污染源。
11. 無塵衣著妥后,經(jīng)洗塵,并踩踏除塵毯,方得進入無塵室。
12. 不論進入或離開無塵室,須按規(guī)定在更衣室脫無塵衣,不可在其它區(qū)域為之,尤不可在無塵室內(nèi)邊走邊脫。
13. 無塵衣,鞋套等,應定期清洗,有破損,脫線時,應即換新。
14. 脫下無塵衣時,其順序與穿著時相反。
15. 脫下之無塵衣應吊好,并放于更衣室內(nèi)上層柜子中;鞋套應放置于吊好的無塵衣下方。
16. 更衣室內(nèi)小柜中,除了放置無塵衣等規(guī)定物品外,不得放置其它物品。
17. 除規(guī)定紙張及物品外,其它物品一概不得攜入無塵室。
18. 無塵衣等不得攜出無塵室,用畢放置于規(guī)定處所。
19. 口罩與手套可視狀況自行保管或重復使用。
20. 任何東西進入無塵室,必須用灑精擦拭干凈。
21. 任何設備的進入,請知會管理人,在無塵室外擦拭干凈,方可進入。
22. 未通過考核之儀器,禁止使用,若遇緊急情況,得依緊急處理步驟作適當處理,例如關閉水、電、氣體等開關。
23. 無塵室內(nèi)絕對不可動火,以免發(fā)生意外。
二、半導體無塵車間操作須知
1.處理芯片時,必須戴上無纖維手套,使用清洗過的干凈鑷子挾持芯片,請勿以手指或其它任何東西接觸芯片,遭碰觸污染過的芯片須經(jīng)清洗,方得繼續(xù)使用:
(1) 任何一支鑷子前端(即挾持芯片端)如被碰觸過,或是鑷子掉落地上,必須拿去清洗請勿用紙巾或布擦拭臟鑷子。
(2) 芯片清洗后進行下一程序前,若被手指碰觸過,必須重新清洗。
(3) 把芯片放置于石英舟上,準備進爐管時,若發(fā)現(xiàn)所用鑷子有污損現(xiàn)象或芯片上有顯眼由鑷子所引起的污染,必須將芯片重新清洗,并立即更換干凈的鑷子使用。
2. 芯片必須放置盒中,蓋起來存放于規(guī)定位置,盡可能不讓它暴露。
3. 避免在芯片上談話,以防止唾液濺于芯片上,在芯片進擴散爐前,請?zhí)貏e注意,防止上述動作產(chǎn)生,若芯片上沾有纖維屑時,用氮氣槍噴之。
4. 從鐵弗龍(Teflon)晶舟,石英舟(Quartz Boat)等載具(Carrier)上,取出芯片時,必須垂直向上挾起,避免刮傷芯片,顯微鏡鏡頭確已離芯片,方可從吸座上移走芯片。
5. 芯片上,若已長上氧化層,在送黃光室前切勿用鉆石刀在芯片上刻記。
6. 操作時,不論是否戴上手套,手絕不能放進清洗水槽。
7. 使用化學站或烤箱處理芯片時,務必將芯片置放于鐵弗龍晶舟內(nèi),不可使用塑料盒。
8. 擺置芯片于石英舟時,若芯片掉落地上或手中則必須重新清洗芯片,然后再進氧化爐。
9. 請勿觸摸芯片盒內(nèi)部,如被碰觸或有碎芯片污染,必須重作清洗。
10. 手套,廢紙及其它雜碎東西,請勿留置于操作臺,手套若燒焦、磨破或纖維質(zhì)變多必須換新。
11. 非經(jīng)指示,絕不可開啟不熟悉的儀器及各種開關閥控制鈕或把手。
12. 奇怪的味道或反應異常的溶液,顏色,聲響等請即通知相關人員。
13. 儀器因操作錯誤而有任何損壞時,務必立刻告知負責人員或老師。
14. 芯片盒進出無塵室須保持干凈,并以保鮮膜封裝,違者不得進入。
15. 無塵室內(nèi)一律使用原子筆及無塵筆記本做記錄,一般紙張與鉛筆不得攜入。
三、半導體無塵車間黃光區(qū)操作須知
1. 濕度及溫度會影響對準工作,在黃光區(qū)應注意溫度及濕度,并應減少對準機附近的人,以減少濕、溫度的變化。
2. 上妥光阻尚未曝光完成之芯片,不得攜出黃光區(qū)以免感光。
3. 己上妥光阻,而在等待對準曝光之芯片,應放置于不透明之藍黑色晶盒之內(nèi), 盒蓋必須蓋妥。
4. 光罩使用時應持取邊緣,不得觸及光罩面,任何狀況之下,光罩鉻膜不得與他物接觸,以防刮傷,光罩之落塵可以氮氣槍吹之。
5. 曝光時,應避免用眼睛直視曝光機汞燈。
四、鑷子使用須知
1. 進入實驗室后,應先戴上手套后,再取鑷子,以免沾污。
2. 唯有使用干凈的鑷子,才可持取芯片,鑷子一旦掉在地上或被手觸碰,或因其它原因而遭污染,必須拿去清洗,方可再使用。